其中，樣片調平機構包括球座和半球。調平過程中首先對球座和半球通上壓力空氣，再通過調焦手輪，使球座、半球、樣片向上運動，使樣片與掩模相靠而找平樣片，然后對二位三通電磁閥將球座和半球切換為真空進行鎖緊而保持調平狀態。

        樣片調焦機構由調焦手輪、杠桿機構和上升直線導軌等組成，調平上升過程初步調焦，調平完成鎖緊球氣浮后，樣片和掩模之間會產生一定的間隙，因此必須進行微調焦。另一方面，調平完成進行對準，必須分離一定的對準間隙，也需要進行微調焦。

        抽拉掩模臺主要用于快速上下片，由燕尾導軌、定位擋塊和鎖緊手輪組成。承片臺和掩模夾是根據不同的樣片和掩模尺寸而進行設計的。

        而工件臺上的一切操作都需要在對準系統的輔助下，進行手工調節。

        而制造高精度的對準系統需要具有近乎完美的精密機械工藝，對準系統另外一個技術難題就是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡的視場，許多高端的光刻機，采用了led照明。

        對準系統共有兩套，具備調焦功能。主要就是由雙目雙視場對準顯微鏡主體、目鏡和物鏡各1對光刻機通常會提供不同放大倍率的目鏡和物鏡供用戶組合使用。

        而楊小樂對sony公司的ccd感光元件這么感興趣、甚至不惜大丟臉面的垂涎三尺，就是為了將ccd應用在對準系統上，前世應用廣泛的ccd對準系統作用是將掩模和樣片的對準標記放大并成像于監視器上。

        不錯，楊小樂就是想借此進入光刻機的市場。

        而要想進入這個真正的高科技行業，除了從日本的尼康和佳能入手以外，楊小樂暫時別無他法，因為這個行業是個系統工程，高端光刻機集精密光學、機械、控制、材料等先進科技和工程技術于一體，是集成電路裝備中技術難度最高、價格最昂貴的關鍵設備，被稱為人類技術發展的制高點和制造工業“皇冠上的明珠”。

        光刻機的水平決定著集成電路的發展水平，它在ic制造設備的價值鏈中占30%—40%。而光刻機的主要難點聚焦在準分子光源、光學系統和超精密運動高速工作臺。猶如世界上沒有兩片相同的葉子，同樣，也沒有兩臺一模一樣的光刻機。每臺光刻機，都有自己獨一無二的“光刻指紋”。楊小樂的最終目的就是要生產完全屬于自己的光刻機。

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